半導體照明是正處于方興未艾的産業，随著(zhe)化合物半導體市場的擴展，特種(zhǒng)氣體的需求呈現更大的增長(cháng)，外延生長(cháng)需要大量的超純源和過(guò)程氣體。目前台灣和日本的化合物半導體市場上占有率較高，近年來，中國(guó)、韓國(guó)的發(fā)展勢頭強勁，北美、歐洲的占有率也有所增長(cháng)。應用于半導體技術中的特種(zhǒng)氣體因爲種(zhǒng)類繁多、品質要求嚴格，生産、充裝、運送、儲存都(dōu)有技術及安全的要求，再加上經(jīng)濟規模等因素，需要多方面(miàn)的積累，才能(néng)實現規模化生産，因此目前國(guó)内呈現現市場大、供應能(néng)力小的局面(miàn)。

    半導體工業用氣體品種(zhǒng)多、質量要求高、用量少，大部分是有毒或腐蝕性氣體。品種(zhǒng)高達百餘種(zhǒng)。半導體工業特種(zhǒng)氣體應用分類，主要包括：

    1、矽族氣體：含矽基的矽烷類，如矽烷、二氯二氫矽、乙矽烷等。

    2、摻雜氣體：含硼、磷、砷等三族及五族原子之氣體，如三氯化硼、三氟化硼、磷烷、砷烷等。

    3、蝕刻清洗氣體：以含鹵化物及鹵碳化合物爲主，如氯氣、三氟化氮、溴化氫、四氟化碳、六氟乙烷等。

    4、反應氣體：以碳系及氮系氧化物爲主，如二氧化碳、氨、氧化亞氮等。

    5、金屬氣相沉積氣體：含鹵化金屬及有機烷類金屬，如六氟化鎢、******基镓等。

    在LED産業鏈中，外延技術、設備和材料是外延片制造技術的關鍵。當前MOCVD工藝已成(chéng)爲制造絕大多數光電子材料的基本技術。外延技術需要的超純特種(zhǒng)氣體包括高純砷烷、高純磷烷、高純氨氣，砷化镓生産中應用矽烷N型摻雜，而氯化氫和氯氣常常用做蝕刻氣，氩、氫、氮則是必須的載氣。同時(shí)外延生長(cháng)需要的有機源主要是******基镓，******基铟，******基鋁，二乙基鋅，二甲基鋅，二茂鎂等。現有技術的發(fā)展對(duì)這(zhè)些産品的品質要求也越來越高。

    在半導體化合物生産過(guò)程中，除了純特種(zhǒng)所之外，還(hái)需要部分混合氣體，主要包括SiH4/H2.SiH4/N2作爲成(chéng)膜源用量盡管不大，但是對(duì)産品質量要求極高，配制混合氣體的露點達到-95℃以下，隻有這(zhè)樣(yàng)才可以******外延片生長(cháng)的成(chéng)品率。

    化合物半導體産業的擴展，帶動原材料市場的迅速提升，包括晶圓、襯底、蝕刻劑、過(guò)程氣體、有機金屬化合物、測試和包裝材料等的需求每年以大約21%的比例遞增，而過(guò)程氣體（砷烷、磷烷、氨氣、氩、氫、氮、氯化氫、氯氣等）占整體原料的消耗8%。